[发明专利]一种掩膜版、蒸镀系统及掩膜版的制备方法在审
| 申请号： | 201911151364.9 | 申请日： | 2019-11-21 |
| 公开（公告）号： | CN110777328A | 公开（公告）日： | 2020-02-11 |
| 发明（设计）人： | 韩冰;张志远;李伟丽;刘明星 | 申请（专利权）人： | 昆山国显光电有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/04 | 分类号： | C23C14/04;C23C14/24 |
| 代理公司： | 44470 广东君龙律师事务所 | 代理人： | 丁建春 |
| 地址： | 215300 江苏省*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本申请提供了一种掩膜版、蒸镀系统及掩膜版的制备方法，所述掩膜版包括：多个掩膜条，所述掩膜条上设置有至少一组有效蒸镀区以及位于所述有效蒸镀区周围的过渡区；其中，所述掩膜条由至少两个掩膜主体层叠设置形成，至少部分所述掩膜主体对应所述过渡区的位置设置有通孔，至少两个相邻所述掩膜主体上的所述通孔之间错位设置，以使蒸镀材料无法通过所述过渡区。通过上述方式，本申请能够对掩膜版过渡区内的通孔进行遮挡。 | ||
| 搜索关键词： | 掩膜版 掩膜主体 过渡区 掩膜条 通孔 蒸镀 层叠设置 错位设置 蒸镀材料 蒸镀系统 制备 申请 遮挡 | ||
【主权项】：
1.一种掩膜版，其特征在于，包括：/n多个掩膜条，所述掩膜条上设置有至少一组有效蒸镀区以及位于所述有效蒸镀区周围的过渡区；/n其中，所述掩膜条由至少两个掩膜主体层叠设置形成，至少部分所述掩膜主体对应所述过渡区的位置设置有通孔，至少两个相邻所述掩膜主体上的所述通孔之间错位设置，以使蒸镀材料无法通过所述过渡区通孔。/n
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