[发明专利]阵列基板及其制作方法、显示装置有效

专利信息
申请号: 201911159325.3 申请日: 2019-11-22
公开(公告)号: CN112835230B 公开(公告)日: 2023-09-08
发明(设计)人: 张新霞;杨波;耿蒙;李群 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司;合肥鑫晟光电科技有限公司
主分类号: G02F1/1337 分类号: G02F1/1337;G02F1/1343;G02F1/1362
代理公司: 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 代理人: 许静;刘伟
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明提供一种阵列基板及其制作方法、显示装置,该阵列基板包括:按照行列方式排布的第一子像素和第二子像素,第一子像素包括第一像素电极,第一像素电极上设置有多个并列排布的第一狭缝,第二子像素包括第二像素电极,第二像素电极上设置有多个并列排布的第二狭缝,第一狭缝相对于参考方向具有第一倾斜角度,第二狭缝相对于参考方向具有第二倾斜角度,第一倾斜角度和第二倾斜角度互补,参考方向为阵列基板的栅线的一延伸方向;同一行中包括至少一个第一子像素和至少一个第二子像素,和/或,同一列中包括至少一个第一子像素和至少一个第二子像素。本发明中,可以避免色偏以及因同一行或者同一列的子像素倾斜角度相同导致出现的横纹或竖纹。
搜索关键词: 阵列 及其 制作方法 显示装置
【主权项】:
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