[发明专利]成膜装置、成膜方法以及电子器件的制造装置和制造方法在审
| 申请号： | 201911161925.3 | 申请日： | 2019-11-25 |
| 公开（公告）号： | CN111434795A | 公开（公告）日： | 2020-07-21 |
| 发明（设计）人： | 铃木健太郎 | 申请（专利权）人： | 佳能特机株式会社 |
| 主分类号： | C23C14/04 | 分类号： | C23C14/04;C23C14/54;H01L27/32;H01L51/00;H01L51/56 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人： | 刘杨 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供能够提高对准照相机的测量精度的成膜装置、成膜方法以及电子器件的制造装置和制造方法。成膜装置的特征在于具备：真空容器(21)；基板吸附部件(24)，设置在真空容器(21)内，用于保持基板；掩模支承单元(23)，设置在真空容器(21)内，用于支承掩模(M)；对准照相机单元(27)，设置于真空容器(21)的大气侧，具有用于测量基板与掩模(M)的相对的位置关系的对准照相机；以及成膜源(25)，设置在真空容器(21)内，用于收纳成膜材料并将所述成膜材料粒子化而放出，所述对准照相机以向真空容器(21)的内侧突出的方式设置。 | ||
| 搜索关键词： | 装置 方法 以及 电子器件 制造 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于佳能特机株式会社，未经佳能特机株式会社许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201911161925.3/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
