[发明专利]一种可调等离子体射流装置和喷涂系统在审
| 申请号： | 201911165899.1 | 申请日： | 2019-11-25 |
| 公开（公告）号： | CN110944441A | 公开（公告）日： | 2020-03-31 |
| 发明（设计）人： | 刘熊;甘汶艳;王谦;李永福;彭华东;任啸;李小平 | 申请（专利权）人： | 国网重庆市电力公司电力科学研究院;国家电网有限公司 |
| 主分类号： | H05H1/24 | 分类号： | H05H1/24;H05H1/26 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 陈志海 |
| 地址： | 401123 重*** | 国省代码： | 重庆;50 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种可调等离子体射流装置和喷涂系统，由供气模块和放电模块组成，供气模块包括可控阀门和多个气流通道；放电模块包括多个放电单元，放电单元包括若干个等离子体射流管并呈环状排列；多个放电单元与多个气流通道一一对应相连；多个气流通道的开合由可控阀门调节。通过上述公开的可调等离子体射流装置和喷涂系统，增加等离子体射流管的数量，并通过可控阀门控制等离子体射流管所需的工作气体进行等离子体射流放电，在采用等离子体射流装置对大尺寸材料表面处理时，提高对大尺寸材料表面处理效率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 可调 等离子体 射流 装置 喷涂 系统 | ||
【主权项】：
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