[发明专利]基于二茂金属化合物的光刻胶及其制备方法和应用有效
| 申请号： | 201911167289.5 | 申请日： | 2019-11-25 |
| 公开（公告）号： | CN112830944B | 公开（公告）日： | 2022-05-06 |
| 发明（设计）人： | 杨国强;玉佳婷;陈龙;王亚飞;郭旭东;胡睿;王双青 | 申请（专利权）人： | 中国科学院化学研究所 |
| 主分类号： | C07F17/00 | 分类号： | C07F17/00;C07F17/02;G03F7/039 |
| 代理公司： | 北京知元同创知识产权代理事务所(普通合伙) 11535 | 代理人： | 刘元霞;黄海丽 |
| 地址： | 100190 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明属于光刻胶技术领域，具体涉及基于二茂金属化合物的光刻胶及其制备方法和应用。本发明的二茂金属化合物采用金属为中心核结构，因此具有较高的熔点和玻璃化转变温度，能够满足光刻技术要求，且结构稳定，在高温烘烤中薄膜结构无变化。此外，本发明的光刻胶组合物可以用于248nm光刻、193nm光刻、极紫外(EUV)光刻、纳米压印光刻(NIL)和电子束光刻(EBL)等现代光刻工艺中。尤其适合使用于极紫外(EUV)光刻工艺中。 | ||
| 搜索关键词： | 基于 金属 化合物 光刻 及其 制备 方法 应用 | ||
【主权项】：
暂无信息
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