[发明专利]掩膜组件和用于制造该掩膜组件的方法在审
| 申请号： | 201911169891.2 | 申请日： | 2019-11-26 |
| 公开（公告）号： | CN111235524A | 公开（公告）日： | 2020-06-05 |
| 发明（设计）人： | 河在秀;李秀奂;柳光泰;蒋胜旭 | 申请（专利权）人： | 三星显示有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/04 | 分类号： | C23C14/04;C23C14/24 |
| 代理公司： | 北京德琦知识产权代理有限公司 11018 | 代理人： | 张红霞;周艳玲 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 提供一种掩膜组件和用于制造该掩膜组件的方法。所述掩膜组件包括掩膜框架和掩膜。所述掩膜联接到所述掩膜框架以将第一沉积区域至第三沉积区域彼此区分。所述第一沉积区域和所述第三沉积区域中的每个在第一方向上具有比参考宽度大的第一宽度并在第二方向上具有比所述第一宽度小的第二宽度。所述第二沉积区域在所述第一方向上具有比所述第一宽度小的第三宽度并在所述第二方向上具有比所述参考宽度小的第四宽度。 | ||
| 搜索关键词： | 组件 用于 制造 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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