[发明专利]一种环氧型负性厚膜光刻胶及其制备与使用方法有效
| 申请号： | 201911170357.3 | 申请日： | 2019-11-26 |
| 公开（公告）号： | CN111007696B | 公开（公告）日： | 2023-03-28 |
| 发明（设计）人： | 刘平;刘永生;孙友松;冉瑞成;毛国平;傅志伟 | 申请（专利权）人： | 江苏汉拓光学材料有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/004 | 分类号： | G03F7/004;C09D163/00;C08G59/38 |
| 代理公司： | 上海智晟知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 31313 | 代理人： | 林高锋 |
| 地址： | 201612 上海市松*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种环氧型负性厚膜光刻胶，其包括以下质量百分比的组成：环氧树脂10～80％；光致产酸剂3～6％；聚合型缩水甘油醚添加剂1～5％；流平剂100～3000ppm；溶剂余量。本申请还涉及上述环氧型负性厚膜光刻胶的制备与使用方法。本发明显著改善了该厚膜光刻胶的胶膜开裂缺陷，扩大了应用范围。本发明涉及的光刻胶涂膜厚度大约10‑200um，适合制备具有高深宽比的微结构的电路或器件。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 环氧型负性厚膜 光刻 及其 制备 使用方法 | ||
【主权项】：
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