[发明专利]测试标记及利用该测试标记的光刻机离焦量测量方法有效
| 申请号： | 201911175714.5 | 申请日： | 2019-11-26 |
| 公开（公告）号： | CN112859556B | 公开（公告）日： | 2022-04-12 |
| 发明（设计）人： | 朱晓亮;刘泽华 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备（集团）股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F9/00 | 分类号： | G03F9/00;G03F7/20 |
| 代理公司： | 上海思捷知识产权代理有限公司 31295 | 代理人： | 王宏婧 |
| 地址： | 201203 上*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种测试标记及利用该测试标记的光刻机离焦量测量方法，所述第一区域的透光区和/或所述第二区域的透光区设置有沿所述预定方向的相移线条，由所述第一区域曝光的图案测得第一关键尺寸，由所述第二区域曝光的图案测得第二关键尺寸，所述相移线条使所述第一关键尺寸和所述第二关键尺寸具有差值。拟合计算出所述第一关键尺寸和所述第二关键尺寸的差值与离焦量的函数关系。能及时判断光刻机曝光的离焦程度，快速判断是否需要重新校准最佳焦面，及时阻止离焦导致的良率降低。在测量CDU时可以接着测量测试标记，无需转移或者重新曝光。简化测量流程，提高测量精度。节约时间，减少成本，能真实反应离焦量对于CDU结果的影响程度。 | ||
| 搜索关键词： | 测试 标记 利用 光刻 机离焦量 测量方法 | ||
【主权项】：
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