[发明专利]溅射靶及其制造方法有效
| 申请号： | 201911197853.8 | 申请日： | 2019-11-29 |
| 公开（公告）号： | CN111663107B | 公开（公告）日： | 2022-05-06 |
| 发明（设计）人： | 水口智司;笹冈英俊;中村晴日;五来敦 | 申请（专利权）人： | JX金属株式会社 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34 |
| 代理公司： | 北京伟思知识产权代理事务所(普通合伙) 11725 | 代理人： | 聂宁乐;胡瑾 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明要解决的技术问题是提供一种在溅射时能够抑制与基板微粒增加相关联的微细结瘤的产生量的溅射靶及其制造方法。本发明提供一种陶瓷系溅射靶，其溅射面的表面粗糙度Ra为0.5μm以下，并且用激光显微镜测量的Svk值为1.1μm以下。 | ||
| 搜索关键词： | 溅射 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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