[发明专利]一种漫反射结构及其制备方法有效
| 申请号： | 201911201051.X | 申请日： | 2019-11-29 |
| 公开（公告）号： | CN110908022B | 公开（公告）日： | 2021-06-25 |
| 发明（设计）人： | 李兆国;李晓佳;张继成;吴卫东 | 申请（专利权）人： | 中国工程物理研究院激光聚变研究中心 |
| 主分类号： | G02B5/02 | 分类号： | G02B5/02 |
| 代理公司： | 北京远大卓悦知识产权代理有限公司 11369 | 代理人： | 贾晓燕 |
| 地址： | 621000 四*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种漫反射结构及其制备方法，包括一个超薄金属箔基体，所述超薄金属箔基体被压制成型为三维微结构阵列；该结构具有将平行入射光实现漫反射的功能，防止高强度的镜面反射光对周围环境的影响。另外，在所述超薄金属箔微结构上制备多层功能薄膜，能够实现对入射光的吸收和漫反射功能，从而极大地减弱反射光的强度；该结构成本低廉、工艺简单，且质量轻。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 漫反射 结构 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
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