[发明专利]单晶炉有效
申请号: | 201911202308.3 | 申请日: | 2019-11-29 |
公开(公告)号: | CN110760935B | 公开(公告)日: | 2021-07-20 |
发明(设计)人: | 刘彬国;黄旭光;王玉龙 | 申请(专利权)人: | 晶澳太阳能有限公司;晶海洋半导体材料(东海)有限公司 |
主分类号: | C30B35/00 | 分类号: | C30B35/00;C30B29/06 |
代理公司: | 上海华诚知识产权代理有限公司 31300 | 代理人: | 徐颖聪 |
地址: | 055550 *** | 国省代码: | 河北;13 |
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摘要: | 本发明提供一种单晶炉,单晶炉包括:炉体,所述炉体顶端形成有进气孔,且所述炉体的侧壁上形成有排气孔;坩埚,所述坩埚置于所述炉体中部位并与所述进气口相对应;加热器,所述加热器沿所述坩埚外周设置,用于对所述坩埚进行加热,其中,所述排气孔在高度方向上位于所述加热器中上部以上。本发明通过缩短炉内气流排出行程,有效控制熔硅液面上方的气体乱流,减少硅蒸汽和炉内石墨部件产生的化学反应,增加了石墨部件的寿命,降低了成本,也增强单晶炉的稳定性,提升成晶率,同时硅蒸汽的及时排出,降低了单晶硅的碳和氧含量,提升单晶硅的品质。 | ||
搜索关键词: | 单晶炉 | ||
【主权项】:
1.一种单晶炉,其特征在于,包括:/n炉体,所述炉体顶端形成有进气孔,且所述炉体的侧壁上形成有排气孔;/n坩埚,所述坩埚置于所述炉体中部位并与所述进气口相对应;/n加热器,所述加热器沿所述坩埚外周设置,用于对所述坩埚进行加热;/n其中,所述排气孔在高度方向上位于所述坩埚底部以上。/n
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