[发明专利]微影设备在审

专利信息
申请号: 201911206497.1 申请日: 2019-11-29
公开(公告)号: CN111258185A 公开(公告)日: 2020-06-09
发明(设计)人: 陈冠宏;简上傑;陈立锐;郑博中 申请(专利权)人: 台湾积体电路制造股份有限公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20
代理公司: 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 代理人: 徐金国
地址: 中国台湾新竹市*** 国省代码: 台湾;71
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 一种微影设备包括极紫外(extreme ultraviolet;EUV)扫描器、耦合到EUV扫描器的EUV辐射源、石英晶体微量天平及回馈控制器。石英晶体微量天平设置在EUV辐射源及EUV扫描器中至少一者的内表面上。回馈控制器耦合到石英晶体微量天平及一或多个辐射源、液滴产生器及控制与EUV辐射源相关联的辐射源轨迹的光导元件中的一或更多者。
搜索关键词: 设备
【主权项】:
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