[发明专利]硬涂膜及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201911215428.7 申请日: 2019-12-02
公开(公告)号: CN111378194B 公开(公告)日: 2023-04-18
发明(设计)人: 安钟南;高健赫;高秉瑄;朴相胤;朴尽秀;尹浩哲;张太硕 申请(专利权)人: SK新技术株式会社;爱思开高新信息电子材料株式会社
主分类号: C08J7/046 分类号: C08J7/046;C08L79/08;C09D183/04;G02B1/16
代理公司: 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 代理人: 蒋洪之;罗达
地址: 韩国*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明提供一种硬涂膜,其包括聚酰胺酰亚胺基底层和硬涂层,它们各自具有预定的折射率,这些层之间的折射率差为0.05以下,其中根据ASTM D111测得的所述基底层在80μm的厚度下的拉伸模量为3‑7GPa。即,本发明涉及一种具有改善的机械性能和光学性能的硬涂膜。
搜索关键词: 硬涂膜 及其 制备 方法
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于SK新技术株式会社;爱思开高新信息电子材料株式会社,未经SK新技术株式会社;爱思开高新信息电子材料株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201911215428.7/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top