[发明专利]蚀刻剂组合物以及使用蚀刻剂组合物制造金属图案和阵列衬底的方法有效
| 申请号： | 201911217843.6 | 申请日： | 2019-12-03 |
| 公开（公告）号： | CN111270236B | 公开（公告）日： | 2023-09-22 |
| 发明（设计）人： | 金俸均;金镇奭;沈承辅;崔新革;金承熙;李栋熙;金奎佈;申贤哲;李大雨;李秉雄;李相赫 | 申请（专利权）人： | 三星显示有限公司;株式会社东进世美肯 |
| 主分类号： | C23F1/18 | 分类号： | C23F1/18;C23F1/02;C23F1/26 |
| 代理公司： | 北京英赛嘉华知识产权代理有限责任公司 11204 | 代理人： | 王达佐;洪欣 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本申请涉及蚀刻剂组合物，其包含过硫酸盐、四氮环化合物、二氯化合物、氟化合物和水，并且所述蚀刻剂组合物具有约1:0.5至约1:4的所述四氮环化合物与所述二氯化合物的重量比。所述蚀刻剂组合物可以蚀刻钛/铜的多层并且可以用于制造具有优异的蚀刻图案的性质的金属图案和阵列衬底。 | ||
| 搜索关键词： | 蚀刻 组合 以及 使用 制造 金属 图案 阵列 衬底 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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