[发明专利]类石墨含氢碳膜、制备方法及光学薄膜在审

专利信息
申请号: 201911219324.3 申请日: 2019-12-03
公开(公告)号: CN110863188A 公开(公告)日: 2020-03-06
发明(设计)人: 伏开虎;金扬利;祖成奎;刘永华;陈玮;孙丽;谭玉蔚;郝雪菲 申请(专利权)人: 中国建筑材料科学研究总院有限公司
主分类号: C23C16/26 分类号: C23C16/26;C23C16/517;C23C16/02
代理公司: 北京鼎佳达知识产权代理事务所(普通合伙) 11348 代理人: 刘铁生;孟阿妮
地址: 100024*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明主要目的在于提供一种类石墨含氢碳膜、制备方法及光学薄膜。所述方法包括以下步骤:将清洁的基体置于输出极板上,在输出极板施加<100V的负偏压;真空气氛下,通入碳氢气体进行等离子体增强化学气相沉积;所述碳氢气体为甲烷和/或氢气;所述沉积的温度≤100℃。所要解决的技术问题是制备一种具有低应力(<0.3GPa)的类石墨含氢碳膜;将其沉积在锗、硅、蓝宝石硫化锌、硒化锌、硫系玻璃表面起到物理、化学防护、防潮和红外增透的作用;将其沉积在聚四氟乙烯薄膜等不耐高温、温度膨胀系数较大的柔性基体表面,膜基结合性良好,可以随基体任意弯曲,起到物理、化学防护和摩擦润滑的作用;从而更加适合使用。
搜索关键词: 石墨 含氢碳膜 制备 方法 光学薄膜
【主权项】:
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