[发明专利]类石墨含氢碳膜、制备方法及光学薄膜在审
申请号: | 201911219324.3 | 申请日: | 2019-12-03 |
公开(公告)号: | CN110863188A | 公开(公告)日: | 2020-03-06 |
发明(设计)人: | 伏开虎;金扬利;祖成奎;刘永华;陈玮;孙丽;谭玉蔚;郝雪菲 | 申请(专利权)人: | 中国建筑材料科学研究总院有限公司 |
主分类号: | C23C16/26 | 分类号: | C23C16/26;C23C16/517;C23C16/02 |
代理公司: | 北京鼎佳达知识产权代理事务所(普通合伙) 11348 | 代理人: | 刘铁生;孟阿妮 |
地址: | 100024*** | 国省代码: | 北京;11 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明主要目的在于提供一种类石墨含氢碳膜、制备方法及光学薄膜。所述方法包括以下步骤:将清洁的基体置于输出极板上,在输出极板施加<100V的负偏压;真空气氛下,通入碳氢气体进行等离子体增强化学气相沉积;所述碳氢气体为甲烷和/或氢气;所述沉积的温度≤100℃。所要解决的技术问题是制备一种具有低应力(<0.3GPa)的类石墨含氢碳膜;将其沉积在锗、硅、蓝宝石硫化锌、硒化锌、硫系玻璃表面起到物理、化学防护、防潮和红外增透的作用;将其沉积在聚四氟乙烯薄膜等不耐高温、温度膨胀系数较大的柔性基体表面,膜基结合性良好,可以随基体任意弯曲,起到物理、化学防护和摩擦润滑的作用;从而更加适合使用。 | ||
搜索关键词: | 石墨 含氢碳膜 制备 方法 光学薄膜 | ||
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国建筑材料科学研究总院有限公司,未经中国建筑材料科学研究总院有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201911219324.3/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的