[发明专利]一种大量程成像式双折射分布测量装置及方法在审

专利信息
申请号: 201911224798.7 申请日: 2019-12-04
公开(公告)号: CN110763633A 公开(公告)日: 2020-02-07
发明(设计)人: 陈宽;陈国飞;曾爱军;葛士军;胡伟 申请(专利权)人: 南京先进激光技术研究院;苏州晶萃光学科技有限公司
主分类号: G01N21/23 分类号: G01N21/23;G01N21/21
代理公司: 32296 南京睿之博知识产权代理有限公司 代理人: 杨晓玲
地址: 210038 江苏省南京市*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明公开了一种大量程成像式双折射分布测量装置及方法,该测量装置包括:光源模块,其接收控制与数据处理模块信号,选择并输出测量所用波长的光束,透射照明被测材料样品;成像镜组,其将经被测材料样品的出射光束投影到光电探测器上;可变偏振态发生器,其位于被测材料样品两侧的光路中,根据控制与数据处理模块输入的电信号,改变光束的偏振态,提供光束的起偏、检偏或相位延迟;光电探测器,其将采集的光强分布转化为电信号输出给控制与数据处理模块运算,最终呈现被测物双折射分布结果。本发明解决了现有双折射分布测量技术存在的测量速度相对较慢、相位延迟量量程受限的问题。
搜索关键词: 数据处理模块 被测材料 双折射 光电探测器 分布测量装置 电信号输出 相位延迟量 测量装置 成像镜组 出射光束 分布测量 分布结果 光强分布 光源模块 接收控制 可变偏振 输出测量 透射照明 相位延迟 发生器 被测物 成像式 大量程 偏振态 波长 光路 检偏 量程 受限 运算 投影 测量 采集 转化
【主权项】:
1.一种大量程成像式双折射分布测量装置,其特征在于:包括光源模块、成像镜组、可变偏振态发生器、光电探测器和控制与数据处理模块;光源模块接收控制与数据处理模块信号,选择并输出测量所用波长的光束,透射照明被测材料样品,成像镜组将经被测材料样品的出射光束投影到光电探测器上,可变偏振态发生器位于被测材料样品两侧的光路中,根据控制与数据处理模块输入的电信号,改变光束的偏振态,提供光束的起偏、检偏或相位延迟,光电探测器将采集的光强分布转化为电信号输出给控制与数据处理模块运算,最终呈现被测物双折射分布结果。/n
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