[发明专利]镀膜装置的进气系统有效
申请号: | 201911227621.2 | 申请日: | 2019-12-04 |
公开(公告)号: | CN112899638B | 公开(公告)日: | 2022-11-29 |
发明(设计)人: | 宗坚 | 申请(专利权)人: | 江苏菲沃泰纳米科技股份有限公司 |
主分类号: | C23C16/26 | 分类号: | C23C16/26;C23C16/505;C23C16/455;C23C16/458;C23C16/52 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人: | 骆苏华 |
地址: | 214000 江苏省无锡市*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明提供种镀膜装置的进气系统,用于一类金刚石涂层的镀膜装置为至少一待镀膜产品进行布气镀膜,所述镀膜装置的进气系统包括至少一进气单元和一布气单元,其中所述布气单元被设置于所述待镀膜产品的顶部,所述进气单元的一端与所述镀膜装置中的一气源装置连通,所述进气单元的另一端与所述布气单元连通,从而使经过所述进气单元进入所述布气单元的气体能够由所述待镀膜产品的顶部到达所述待镀膜产品的表面。 | ||
搜索关键词: | 镀膜 装置 系统 | ||
【主权项】:
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的