[发明专利]形成耐等离子体涂层的方法、零部件和等离子体处理装置在审
| 申请号： | 201911228894.9 | 申请日： | 2019-12-04 |
| 公开（公告）号： | CN112908822A | 公开（公告）日： | 2021-06-04 |
| 发明（设计）人： | 段蛟;孙祥;陈星建 | 申请（专利权）人： | 中微半导体设备（上海）股份有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32 |
| 代理公司： | 上海元好知识产权代理有限公司 31323 | 代理人： | 徐雯琼;张静洁 |
| 地址： | 201201 上海市浦东新*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 一种在零部件上形成耐等离子体涂层的方法、零部件和处理装置，方法包括：提供零部件；对所述零部件进行加热；提供涂覆材料源，所述涂覆材料源包含有机基团、氧原子和金属原子，或者涂覆材料源包含有机基团、氧原子、金属原子和氟原子；向零部件表面输送气态的涂覆材料源，所述涂覆材料源在零部件表面因受热发生化学反应形成耐等离子体涂层，所述耐等离子体涂层包括具有稳定相的面心立方结构的钇基多元金属氧化物或钇基氧氟化物。包含所述耐等离子体涂层的零部件用在等离子体刻蚀腔体中，能降低涂层被等离子体腐蚀。 | ||
| 搜索关键词： | 形成 等离子体 涂层 方法 零部件 处理 装置 | ||
【主权项】：
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