[发明专利]离子交换膜固定装置及电镀装置在审
| 申请号： | 201911242550.3 | 申请日： | 2019-12-06 |
| 公开（公告）号： | CN112921381A | 公开（公告）日： | 2021-06-08 |
| 发明（设计）人： | 余齐兴;杨宏超;金一诺;陆陈华;王坚;王晖 | 申请（专利权）人： | 盛美半导体设备（上海）股份有限公司 |
| 主分类号： | C25D17/00 | 分类号： | C25D17/00 |
| 代理公司： | 上海光华专利事务所(普通合伙) 31219 | 代理人： | 佟婷婷 |
| 地址： | 201203 上海市浦东新区中国*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供一种离子交换膜固定装置及电镀装置，离子交换膜固定装置包括：离子膜骨架，其上形成有凹槽结构；第一垫片，设置于凹槽结构底部；第二垫片，设置于凹槽结构中且位于第一垫片上方；离子交换膜包括待固定区域，待固定区域至少位于第一垫片与第二垫片之间，第一垫片、第二垫片及离子交换膜的厚度之和等于凹槽结构的深度；至少一个固定组件，至少设置于离子膜骨架上，以将离子交换膜固定在离子膜骨架上。本发明的离子交换膜固定装置，设置凹槽结构的深度等于第一垫片、第二垫片以及离子交换膜的厚度之和，可以有效地将所述离子交换膜固定，减小离子交换膜由于固定发生损坏的问题。 | ||
| 搜索关键词： | 离子交换 固定 装置 电镀 | ||
【主权项】：
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