[发明专利]一种磁场吸附辅助掩模蒸镀微纳结构的制备方法在审
| 申请号： | 201911248163.0 | 申请日： | 2019-12-06 |
| 公开（公告）号： | CN110923623A | 公开（公告）日： | 2020-03-27 |
| 发明（设计）人： | 张雪峰;张鉴 | 申请（专利权）人： | 苏州逸峰新材料科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/04 | 分类号： | C23C14/04;C23C14/24;C23C14/16;C23C14/58;B81C1/00 |
| 代理公司： | 苏州国卓知识产权代理有限公司 32331 | 代理人： | 刘颖棋 |
| 地址： | 215000 江苏省苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明涉及微纳结构技术领域，具体公开了一种磁场吸附辅助掩模蒸镀微纳结构的制备方法，它包括以下步骤：a)利用丙酮和异丙醇清洗处理自支撑的氮化硅(或氧化硅)硅片，并用氮气吹干；b)利用镀膜技术，在自支撑硅片正面蒸镀100～200nm厚度的磁性金属膜；c)利用聚焦离子束刻蚀，在自支撑硅片进行图案化刻蚀，聚焦离子束刻蚀将把镀膜后的自支撑硅片刻穿，形成镂空掩模板；d)将镂空掩模板正面贴于所需制备纳米结构的衬底上，并在衬底背面负载上磁铁，利用磁铁吸引，实现镂空掩模板与衬底的紧密贴合，本发明通过引入磁场辅助吸附，实现了掩模板与衬底的紧密贴合，有效防止镀膜过程中镀膜材料在间隙处的扩散，从而实现高精度纳米结构。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 磁场 吸附 辅助 掩模蒸镀微纳 结构 制备 方法 | ||
【主权项】：
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