[发明专利]一种宽光谱抗反射增透结构及其制备工艺及光栅有效
| 申请号： | 201911249960.0 | 申请日： | 2019-12-09 |
| 公开（公告）号： | CN110927833B | 公开（公告）日： | 2020-09-11 |
| 发明（设计）人： | 毛海央;杨宇东;杨帅;陈大鹏 | 申请（专利权）人： | 无锡物联网创新中心有限公司 |
| 主分类号： | G02B1/118 | 分类号： | G02B1/118 |
| 代理公司： | 北京三聚阳光知识产权代理有限公司 11250 | 代理人： | 寇海侠 |
| 地址： | 214135 江苏省无锡市新吴区*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： |
本发明公开了一种宽光谱抗反射增透结构及其制备工艺及光栅。本发明的宽光谱抗反射增透结构中包括：衬底，还包括设置于所述衬底至少一侧表面的若干锥状抗反射结构，锥状抗反射结构的底部横向尺寸为20～150nm，分布密度为3～20根/um |
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| 搜索关键词： | 一种 光谱 反射 结构 及其 制备 工艺 光栅 | ||
【主权项】：
暂无信息
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