[发明专利]晶圆移动监测方法及涂胶显影机在审
| 申请号： | 201911255771.4 | 申请日： | 2019-12-10 |
| 公开（公告）号： | CN111146117A | 公开（公告）日： | 2020-05-12 |
| 发明（设计）人： | 王绪根;吴长明;姚振海;陈骆;闻旭 | 申请（专利权）人： | 华虹半导体（无锡）有限公司 |
| 主分类号： | H01L21/67 | 分类号： | H01L21/67;G03F7/16 |
| 代理公司： | 上海浦一知识产权代理有限公司 31211 | 代理人： | 罗雅文 |
| 地址： | 214028 江*** | 国省代码： | 江苏;32 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本申请公开了一种晶圆移动监测方法及涂胶显影机，涉及半导体制造领域。该晶圆移动监测方法应用于涂胶显影机台，涂胶显影机台内中转单元的遮挡盖前端设置有距离传感器；该方法包括：通过距离传感器检测中转单元中晶圆与遮挡盖之间的间隙距离，晶圆通过机械臂进出中转单元；通过涂胶显影机台显示间隙距离；解决了目前进出中转单元的晶圆与遮挡盖之间的间隙距离不能实时监测，容易出现晶圆划伤情况的问题；达到了实时监测晶圆与遮挡盖之间的间隙距离，避免机械臂偏移造成晶圆划伤的效果。 | ||
| 搜索关键词： | 移动 监测 方法 涂胶 显影 | ||
【主权项】：
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
