[发明专利]一种埃米级不同材料的三维打印方法在审
申请号: | 201911263196.2 | 申请日: | 2019-12-11 |
公开(公告)号: | CN112941491A | 公开(公告)日: | 2021-06-11 |
发明(设计)人: | 王玉漫 | 申请(专利权)人: | 王玉漫 |
主分类号: | C23C16/455 | 分类号: | C23C16/455;C23C16/40;B33Y10/00 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 100049 北京*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明公开了一种埃米级不同材料的三维打印方法,属于三维打印领域,目前的三维打印技术,在纳米级尺度很难实现打印,双光子打印技术打印的材料有限进行金属材料的打印等还存在很大的技术瓶颈。本发明通过前驱体气体借助类似原子层沉积的方式吸附或反应到基板上,再通过探针上的原子层反应液体反应进行每个原子层的绘图工作,最后在绘图完成后通过原子层沉积技术生长一个原子层的材料,循环往复上述步骤,打印出埃米级不同材料的三维物体。这种埃米级不同材料的三维打印方法,可以打印出埃米尺度的三维结构;可以使不同材料掺杂进行埃米级三维打印实现其功能性。 | ||
搜索关键词: | 一种 埃米级 不同 材料 三维 打印 方法 | ||
【主权项】:
暂无信息
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
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