[发明专利]离子源及其清洁方法在审
| 申请号： | 201911265284.6 | 申请日： | 2019-12-11 |
| 公开（公告）号： | CN111640639A | 公开（公告）日： | 2020-09-08 |
| 发明（设计）人： | 足立昌和;平井裕也;谷口智哉 | 申请（专利权）人： | 日新离子机器株式会社 |
| 主分类号： | H01J37/08 | 分类号： | H01J37/08;H01J37/32 |
| 代理公司： | 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 | 代理人： | 季莹;方应星 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供一种离子源及其清洁方法，该离子源在宽范围内向电极表面照射离子束来除去电极上的沉积物。一种离子源(1)，向配置在等离子体容器(2)下游的抑制电极(3)照射由清洁气体生成的离子束(IB)来清洁抑制电极(3)，其中，离子源(1)具有驱动机构(5)，该驱动机构(5)调整等离子体容器(2)与抑制电极(3)之间的距离，离子源(1)包括控制装置(C)，该控制装置(C)在进行清洁之前，控制驱动机构(5)而使抑制电极(3)或等离子体容器(2)向第一方向移动，扩大等离子体容器(2)与抑制电极(3)之间的距离。 | ||
| 搜索关键词： | 离子源 及其 清洁 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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