[发明专利]一种样品结构及其制作方法、入射空间角标定方法在审

专利信息
申请号: 201911267392.7 申请日: 2019-12-11
公开(公告)号: CN110927409A 公开(公告)日: 2020-03-27
发明(设计)人: 温晓镭 申请(专利权)人: 中国科学技术大学
主分类号: G01Q60/18 分类号: G01Q60/18;G01Q40/02;G01Q30/20
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 温可睿
地址: 230026 安*** 国省代码: 安徽;34
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摘要: 本申请提供一种样品结构及其制作方法、入射空间角标定方法,所述样品结构,包括衬底、位于衬底上的金属薄膜,以及位于金属薄膜内部或其上的纳米结构。样品结构简单,制作方法简易,但是能够在倾斜入射光照射下,产生的近场光场分布能够被SNOM检测到,且对入射光空间角具有良好响应,能够用于SNOM近场光场成像,进而由SNOM近场光场成像测量结果反推出入射光空间角分量,从而实现对SNOM设备入射光空间角的标定。该标定方法简便易行,样品结构制备工艺简单,可作为标准样品对不同厂家型号或实验室搭建的散射式扫描近场光学显微镜入射光空间角进行标定,适用范围广泛,可大批量生产。
搜索关键词: 一种 样品 结构 及其 制作方法 入射 空间 标定 方法
【主权项】:
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