[发明专利]一种阵列基板及其制备方法在审

专利信息
申请号: 201911272740.X 申请日: 2019-12-12
公开(公告)号: CN111106130A 公开(公告)日: 2020-05-05
发明(设计)人: 陈诚 申请(专利权)人: 武汉华星光电半导体显示技术有限公司
主分类号: H01L27/12 分类号: H01L27/12;H01L21/77;H01L27/32;G09F9/30
代理公司: 深圳紫藤知识产权代理有限公司 44570 代理人: 远明
地址: 430079 湖北省武汉市东湖新技术*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 发明公开了一种阵列基板及其制备方法,阵列基板包括显示区和非显示区,所述非显示区具有邦定区和扇出区,所述扇出区设于显示区和邦定区之间,还包括薄膜晶体管结构层,包括栅极层和源漏电极层,栅极层和源漏电极层的材料包括钛、铝、钛铝合金中的至少一种。本发明的有益效果在于本发明的阵列基板及其制备方法,阵列基板上栅极层和源漏电极层采用同一种材料如铝、钛、钛铝合金等低电阻、耐弯折金属,提高了金属走线的电导率和弯折特性,在阵列基板的邦定区中,栅极层设于有机层的下方,离中性面更近,降低了邦定区断线的风险。利用栅极层作为掩膜板进行无机膜层图案化,节约了成本同时解决了金属走线在蚀刻后的柔性基板上粘附较差的问题。
搜索关键词: 一种 阵列 及其 制备 方法
【主权项】:
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