[发明专利]一种具有特殊结构的精密抛光膜及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201911275171.4 申请日: 2019-12-12
公开(公告)号: CN111015535B 公开(公告)日: 2021-04-23
发明(设计)人: 方红;张航海;卞振伟 申请(专利权)人: 东莞金太阳研磨股份有限公司
主分类号: B24D11/00 分类号: B24D11/00;B24D11/04;B24D11/02;C09D161/06;C09D163/00;C09D133/00;C09D175/04;C09D4/06;C09D4/02;C09D7/62;C09D7/20
代理公司: 东莞市华南专利商标事务所有限公司 44215 代理人: 李慧
地址: 523000 广*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明涉及抛光膜技术领域,具体涉及一种具有特殊结构的精密抛光膜及其制备方法,该精密抛光膜包括基材层和设置于所述基材层表面的涂层,所述涂层中分布有磨料,所述涂层包括间隔设置的密纹区和疏纹区,所述密纹区的磨料分布密度大于疏纹区的磨料分布密度,相邻的密纹区与疏纹区的间隔距离为20‑200μm。本发明的精密抛光膜,结构新颖,通过密纹区和疏纹区的设置,密纹区增强对工件的打磨性,而打磨后的工件削末则通过疏纹区导出,避免打磨削末堵塞在抛光膜上而影响抛光效率和效果,使得抛光膜能有效提高抛光膜的抛光效率,且强弱打磨效果的间隔设置,避免出现划伤、凹痕等现象。
搜索关键词: 一种 具有 特殊 结构 精密 抛光 及其 制备 方法
【主权项】:
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