[发明专利]一种真空热蒸镀用一体化蒸发源在审

专利信息
申请号: 201911275234.6 申请日: 2019-12-12
公开(公告)号: CN112981327A 公开(公告)日: 2021-06-18
发明(设计)人: 刘生忠;焦玉骁;王辉;曹越先;杜敏永;段连杰;孙友名;王立坤;王开 申请(专利权)人: 中国科学院大连化学物理研究所
主分类号: C23C14/24 分类号: C23C14/24
代理公司: 沈阳科苑专利商标代理有限公司 21002 代理人: 郑伟健
地址: 116023 辽宁省*** 国省代码: 辽宁;21
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摘要: 发明提供一种真空蒸镀用一体化蒸发源,属于真空蒸镀技术领域,解决了一般热蒸发中加热不均匀性和热惯性大的问题,极大的简化了加热机构。本发明的真空蒸镀用坩埚组件主要包括坩埚和电极座两部分。其中坩埚两端为纯银电极涂层,电极间均为加热部分,镀有电热涂层。此坩埚组件结构简单,发热快速,发热体是坩埚本身,坩埚受热均匀,且热惯性小,能实现快速升温和降温,能实现蒸发速率的快速调控,达到蒸镀速率的稳定性。
搜索关键词: 一种 真空 热蒸镀用 一体化 蒸发
【主权项】:
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