[发明专利]运用于化学机械抛光工艺中的保持环的轮廓及表面制备的方法和设备在审
| 申请号： | 201911281460.5 | 申请日： | 2015-10-29 |
| 公开（公告）号： | CN111015503A | 公开（公告）日： | 2020-04-17 |
| 发明（设计）人： | 大卫·理之·石川;吴正勋;加勒特·何·易·施;查尔斯·C·加勒森;张焕波;裴嘉定;尼拉吉·普拉萨德;朱利奥·大卫·穆斯基斯 | 申请（专利权）人： | 应用材料公司 |
| 主分类号： | B24B37/32 | 分类号： | B24B37/32;B24B37/04;B24B37/10 |
| 代理公司： | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人： | 徐金国;赵静 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及运用于化学机械抛光工艺中的保持环的轮廓及表面制备的方法和设备。一种用于在保持环上形成牺牲表面的固定装置包括：固定板，所述固定板被定尺寸以实质匹配所述保持环的外径；以及夹紧装置，所述夹紧装置适于提供侧向负载至所述保持环的下部部分的内径侧壁或外径侧壁之一。 | ||
| 搜索关键词： | 运用于 化学 机械抛光 工艺 中的 保持 轮廓 表面 制备 方法 设备 | ||
【主权项】：
暂无信息
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