[发明专利]自钳位IGBT器件及其制造方法有效
申请号: | 201911281948.8 | 申请日: | 2019-12-13 |
公开(公告)号: | CN110993516B | 公开(公告)日: | 2021-06-25 |
发明(设计)人: | 孙永生;钟圣荣;周东飞 | 申请(专利权)人: | 上海贝岭股份有限公司 |
主分类号: | H01L21/60 | 分类号: | H01L21/60;H01L23/49;H01L25/18;F02P3/02 |
代理公司: | 上海弼兴律师事务所 31283 | 代理人: | 薛琦;林嵩 |
地址: | 200233 *** | 国省代码: | 上海;31 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明公开了一种自钳位IGBT器件及其制造方法,所述制造方法包括:在IGBT芯片上制作第一打线窗口;在第一芯片上制作第二打线窗口和第三打线窗口;将所述第一芯片叠放在所述IGBT芯片表面;将所述第一打线窗口和所述第二打线窗口进行打线连接,并将所述第三打线窗口和所述IGBT芯片的栅极进行打线连接。本发明在不需要调整IGBT芯片及晶体管(如二极管)的设计规则及工艺的条件下,大大地降低了制造工艺难度,降低了器件的设计要求,提高了IGBT芯片和晶体管芯片结构设计及加工自由度,且在实现自钳位保护功能的同时也保证了IGBT有源区面积不损失;另外,制造流程具有一定的通用性,另外也简化了制造流程。 | ||
搜索关键词: | igbt 器件 及其 制造 方法 | ||
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海贝岭股份有限公司,未经上海贝岭股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201911281948.8/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:芳纶/碳纳米管杂化气凝胶薄膜、其制备方法及应用
- 下一篇:一种新型氛围灯
- 同类专利
- 专利分类
H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造