[发明专利]检测光刻掩模的区域部分上的结构的检测装置及设备有效
申请号: | 201911291657.7 | 申请日: | 2019-12-13 |
公开(公告)号: | CN111324006B | 公开(公告)日: | 2023-10-13 |
发明(设计)人: | U.马特杰卡;S.马丁 | 申请(专利权)人: | 卡尔蔡司SMT有限责任公司 |
主分类号: | G03F1/84 | 分类号: | G03F1/84;G01M11/00 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人: | 王蕊瑞 |
地址: | 德国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 检测装置用于检测光刻掩模的区域部分上的结构。检测装置具有第一空间分辨的检测器以及与其分离布置的其他空间分辨的检测器。第一空间分辨的检测器实施为高强度(HI)检测器,布置在从掩模区域部分发出的检测光的HI束路径中。其他空间分辨的检测器实施为低强度(LI)检测器,布置在检测光的LI束路径中,HI束路径和LI束路径实施为使得用一检测光强度照明HI检测器,该检测光强度至少是照明LI检测器的检测光强度的幅度的两倍。两个空间分辨的检测器实施为同步检测检测光。结果是检测装置的动态范围提高而不限制空间分辨率的检测装置。替代地或附加地,通过两个空间分辨的检测器,检测装置还可以实施为对检测光进行偏振分辨测量。 | ||
搜索关键词: | 检测 光刻 区域 部分 结构 装置 设备 | ||
【主权项】:
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
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