[发明专利]检测光刻掩模的区域部分上的结构的检测装置及设备有效

专利信息
申请号: 201911291657.7 申请日: 2019-12-13
公开(公告)号: CN111324006B 公开(公告)日: 2023-10-13
发明(设计)人: U.马特杰卡;S.马丁 申请(专利权)人: 卡尔蔡司SMT有限责任公司
主分类号: G03F1/84 分类号: G03F1/84;G01M11/00
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 王蕊瑞
地址: 德国*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 检测装置用于检测光刻掩模的区域部分上的结构。检测装置具有第一空间分辨的检测器以及与其分离布置的其他空间分辨的检测器。第一空间分辨的检测器实施为高强度(HI)检测器,布置在从掩模区域部分发出的检测光的HI束路径中。其他空间分辨的检测器实施为低强度(LI)检测器,布置在检测光的LI束路径中,HI束路径和LI束路径实施为使得用一检测光强度照明HI检测器,该检测光强度至少是照明LI检测器的检测光强度的幅度的两倍。两个空间分辨的检测器实施为同步检测检测光。结果是检测装置的动态范围提高而不限制空间分辨率的检测装置。替代地或附加地,通过两个空间分辨的检测器,检测装置还可以实施为对检测光进行偏振分辨测量。
搜索关键词: 检测 光刻 区域 部分 结构 装置 设备
【主权项】:
暂无信息
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