[发明专利]Cr离子轰击改善多弧离子镀涂层性能的方法在审
| 申请号： | 201911292452.0 | 申请日： | 2019-12-16 |
| 公开（公告）号： | CN110872697A | 公开（公告）日： | 2020-03-10 |
| 发明（设计）人： | 曾德长;易斌;邱兆国 | 申请（专利权）人： | 广东正德材料表面科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/58 | 分类号： | C23C14/58;C23C14/06;C23C14/32 |
| 代理公司： | 广州嘉权专利商标事务所有限公司 44205 | 代理人： | 肖云 |
| 地址： | 528400 广东省中山*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： |
本发明实施例提供了Cr离子轰击改善多弧离子镀涂层性能的方法，该方法中，Cr离子轰击后的TiN涂层表面粗糙度降低，Cr离子轰击TiN涂层后，在TiN涂层表面形成了一层薄薄的TiCrN固溶体，其中的Cr离子在加工过程中会氧化形成Cr |
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| 搜索关键词： | cr 离子 轰击 改善 离子镀 涂层 性能 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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