[发明专利]一种镀膜治具、镀膜设备及镀膜方法在审
| 申请号： | 201911293000.4 | 申请日： | 2019-12-16 |
| 公开（公告）号： | CN113061863A | 公开（公告）日： | 2021-07-02 |
| 发明（设计）人： | 吴献明;陈志斌 | 申请（专利权）人： | 深圳市万普拉斯科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/50 | 分类号： | C23C14/50;C23C14/34;C23C14/30;C23C14/02 |
| 代理公司： | 北京超凡宏宇专利代理事务所(特殊普通合伙) 11463 | 代理人： | 王闯 |
| 地址： | 518000 广东省深圳市*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种镀膜治具、镀膜设备及镀膜方法，涉及玻璃镀膜技术领域。所述镀膜设备包括真空室、偏压电源及镀膜治具，所述镀膜治具包括金属本体，所述金属本体上设有仿形凹坑，所述仿形凹坑的内壁与镀膜工件的镀膜面相契合；真空室内设有工件架及靶源，所述镀膜治具连接于所述工件架，所述靶源正对所述镀膜治具；所述工件架连接所述偏压电源的其中一个电极，所述靶源接地或者连接偏压电源的另一个电极。本发明在镀膜时，镀膜工件的紧贴在仿形凹坑的内壁上，通入偏压电源后，能在镀膜工件的镀膜面上形成各处均匀的电场，膜层物质在电场作用下沉积在镀膜面上，最终形成各处厚度均匀的光学膜。本发明还提供了一种镀膜方法。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 镀膜 设备 方法 | ||
【主权项】：
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