[发明专利]形成图案化金属层的方法在审
| 申请号： | 201911295971.2 | 申请日： | 2019-12-16 |
| 公开（公告）号： | CN111137845A | 公开（公告）日： | 2020-05-12 |
| 发明（设计）人： | 陈志刚 | 申请（专利权）人： | 中芯集成电路制造（绍兴）有限公司 |
| 主分类号： | B81C1/00 | 分类号： | B81C1/00 |
| 代理公司： | 广州华进联合专利商标代理有限公司 44224 | 代理人： | 宋永慧 |
| 地址： | 312000 浙江省*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种形成图案化金属层的方法，包括：提供基板，并在基板上依次形成有机涂层和光刻胶层；图形化光刻胶层；刻蚀有机涂层，使有机涂层相对于光刻胶层形成底切结构；沉积金属材料；去除有机涂层、光刻胶层以及光刻胶层上方的金属材料，形成图案化的金属层。上述形成图案化金属层的方法通过在基板上先形成有机涂层再形成光刻胶层，刻蚀有机涂层使有机涂层相对于光刻胶层形成底切结构，也即有机涂层和光刻胶层之间形成台阶，进而在沉积金属层时由于光刻胶层和有机涂层之间不连续，金属层无法在底切结构底部形成，便于去除光刻胶层上的金属材料，且通过控制对有机涂层的刻蚀过程便于控制金属剥离工艺的窗口大小。 | ||
| 搜索关键词： | 形成 图案 金属 方法 | ||
【主权项】：
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