[发明专利]一种监测装置和硅片处理装置在审
| 申请号： | 201911299173.7 | 申请日： | 2019-12-17 |
| 公开（公告）号： | CN111037458A | 公开（公告）日： | 2020-04-21 |
| 发明（设计）人： | 李亮亮 | 申请（专利权）人： | 西安奕斯伟硅片技术有限公司 |
| 主分类号： | B24B37/11 | 分类号： | B24B37/11;B24B37/34;B24B49/12 |
| 代理公司： | 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 | 代理人： | 许静;胡影 |
| 地址： | 710065 陕西省西安市*** | 国省代码： | 陕西;61 |
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| 摘要： | 本发明提供一种监测装置和硅片处理装置，监测装置包括：光源，光源设置于研磨轮的一侧，研磨轮上形成有沿研磨轮的周向延伸的研磨槽，硅片的边缘置于研磨槽中以研磨硅片，光源用于向研磨轮上投射光线；屏幕，屏幕与光源间隔开设置，屏幕设在研磨轮的另一侧，光源向研磨轮上投射光线时，研磨轮在屏幕上形成投影图像。根据本发明的监测装置，通过研磨轮在屏幕上的投影图像可以监测研磨轮上的研磨槽内是否有硅屑或损坏，当研磨轮出现磨或者硅屑在研磨槽内堆积时，通过研磨轮在屏幕上的投影图像能够及时发现，及时做出调整，有效控制倒角加工质量，避免影响硅片边缘倒角的加工形状，避免造成较多硅片的加工缺陷，提高硅片的加工质量。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 监测 装置 硅片 处理 | ||
【主权项】：
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