[发明专利]基于氧化锆和氧化镧的透明薄膜晶体管器件及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201911299226.5 申请日: 2019-12-17
公开(公告)号: CN111129160B 公开(公告)日: 2023-10-13
发明(设计)人: 方欲晓;赵春;赵策洲;杨莉 申请(专利权)人: 西交利物浦大学
主分类号: H01L29/786 分类号: H01L29/786;H01L29/51;H01L21/445;H01L21/34
代理公司: 苏州创元专利商标事务所有限公司 32103 代理人: 范晴;丁浩秋
地址: 215123 江苏省苏州市*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明公开了一种基于氧化锆和氧化镧的透明薄膜晶体管器件,包括从下到上依次设置的导电玻璃衬底、介电层、半导体层、上金属电极,所述上金属电极包括源电极和漏电极,所述介电层材料为氧化锆和氧化镧的混合氧化物。采用溶液法制备TFT的绝缘层和半导体层,实现低成本大面积的TFT制备,设备和原料投资较少;在工艺上与传统工艺兼容,能有效控制了制备成本。
搜索关键词: 基于 氧化锆 氧化 透明 薄膜晶体管 器件 及其 制备 方法
【主权项】:
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