[发明专利]一种用于傅里叶叠层显微成像技术的光强校正方法有效

专利信息
申请号: 201911299272.5 申请日: 2019-12-17
公开(公告)号: CN111062889B 公开(公告)日: 2023-10-24
发明(设计)人: 张韶辉;郝群;王影;胡摇 申请(专利权)人: 北京理工大学
主分类号: G06T5/00 分类号: G06T5/00;G06T3/40;G02B21/36
代理公司: 北京市中闻律师事务所 11388 代理人: 冯梦洪
地址: 100081 北京市*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 一种用于傅里叶叠层显微成像技术的光强校正方法,能够实现图像亮度校正的效果,进而达到校正光强不一致误差的目的。包括:(1)采集原始图像,构成图像数据集;(2)设定一个图像强度倍数变化区间[A,B],将采集的原始图像对应的强度校正系数初始值定为1,变换强度校正系数数值,调整图像的强度;将初始图像强度校正系数值按照区间[A,B]内的值根据t依次变化,每次测量图像都乘以不同的强度校正系数,每次变化后都计算一次评价函数;经过若干次迭代,找到最合适的亮度倍数值;(3)对每张低分辨率图像都按照最合适的亮度倍数值调整,就完成了图像的亮度校正;(4)经过校正后的图像进行高分辨率重构,得到重构图像。
搜索关键词: 一种 用于 傅里叶叠层 显微 成像 技术 校正 方法
【主权项】:
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