[发明专利]一种基于金属铪沉积二氧化铪薄膜的方法有效
| 申请号： | 201911303139.2 | 申请日： | 2019-12-17 |
| 公开（公告）号： | CN111500987B | 公开（公告）日： | 2022-06-10 |
| 发明（设计）人： | 马孜;徐方文;马卓尔;姚德武;郑环其;沈刚 | 申请（专利权）人： | 西南技术物理研究所 |
| 主分类号： | C23C14/30 | 分类号： | C23C14/30;C23C14/08 |
| 代理公司： | 中国兵器工业集团公司专利中心 11011 | 代理人： | 刘二格 |
| 地址： | 610041 四川*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种基于金属铪沉积二氧化铪薄膜的方法，采用高纯金属铪作为起蒸材料，通过反应蒸发获取二氧化铪薄膜；将氧气通入RF离子源，用离子源提高氧气的氧化能力，获得了低吸收的二氧化铪膜层；在金属铪与坩埚间用二氧化铪进行绝热，降低了蒸发铪时自坩埚效应引起的微喷溅，获得了低缺陷密度的高激光损伤阈值薄膜。本发明方法可显著地提高二氧化铪减反射膜层耐受千瓦级激光的能力，可用于光纤激光器激光加工机透镜和光窗的减反射膜镀制，也可用于其他YAG、钕玻璃激光器减反射膜的沉积。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 基于 金属 沉积 氧化 薄膜 方法 | ||
【主权项】：
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