[发明专利]一种阻变存储器单元及阵列结构有效

专利信息
申请号: 201911306581.0 申请日: 2019-12-18
公开(公告)号: CN111146236B 公开(公告)日: 2023-09-05
发明(设计)人: 郭奥 申请(专利权)人: 上海集成电路研发中心有限公司
主分类号: H10B63/00 分类号: H10B63/00
代理公司: 上海天辰知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 31275 代理人: 吴世华;张磊
地址: 201210 上*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明公开了一种阻变存储器单元结构,包括:相连的第一晶体管和第一阻变单元,相连的第二晶体管和第二阻变单元,第一晶体管与第二晶体管相并联;第一晶体管的第一栅极连接第一字线,第一源极连接第一源线,第一漏极通过第一阻变单元连接第一位线;第二晶体管的第二栅极连接第二字线,第二源极连接第二源线,第二漏极通过第二阻变单元连接第二位线。本发明的阻变存储器单元结构为由两个1T1R单元并联组成的高密度2T2R存储单元,可在同等单元和阵列面积的基础上将存储容量提升一倍,并能实现一位或两位数据操作,具有非常高的操作灵活性,在人工智能、存算一体以及类脑芯片等领域具有非常重要的应用价值。
搜索关键词: 一种 存储器 单元 阵列 结构
【主权项】:
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