[发明专利]发光装置在审
| 申请号： | 201911308229.0 | 申请日： | 2019-12-18 |
| 公开（公告）号： | CN111336471A | 公开（公告）日： | 2020-06-26 |
| 发明（设计）人： | 廖怡惠;李顺昌 | 申请（专利权）人： | 亿光电子工业股份有限公司 |
| 主分类号： | F21S43/31 | 分类号： | F21S43/31;F21S43/40;F21S43/14;F21W103/00;F21Y115/10 |
| 代理公司： | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 | 代理人： | 罗英;刘芳 |
| 地址： | 中国台湾新*** | 国省代码： | 台湾;71 |
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| 摘要： | 本发明提供一种发光装置，其包括一电路基板、光源、至少一反射元件及一光学元件。光源设置于电路基板上，至少一反射元件邻设于光源且包括一反射面。光学元件设置于光源及至少一反射元件上方，包括一透光元件和一干涉元件。干涉元件设置成具有一破坏性干涉方向，反射面的一延伸方向与破坏性干涉方向为不平行，俾使自透光元件射出的光线产生多个并列的细窄状光型。 | ||
| 搜索关键词： | 发光 装置 | ||
【主权项】：
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