[发明专利]一种纳米金刚石金属化薄膜的制备方法、产品及应用有效
申请号: | 201911310594.5 | 申请日: | 2019-12-18 |
公开(公告)号: | CN111005010B | 公开(公告)日: | 2021-05-25 |
发明(设计)人: | 郭胜惠;冯曙光;杨黎;刘秉国;高冀芸 | 申请(专利权)人: | 昆明理工大学 |
主分类号: | C23C16/56 | 分类号: | C23C16/56;C23C16/27;C01B32/28 |
代理公司: | 北京盛询知识产权代理有限公司 11901 | 代理人: | 张海青 |
地址: | 650000 云南省昆明市*** | 国省代码: | 云南;53 |
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摘要: | 本发明公开一种纳米金刚石金属化薄膜的制备方法、产品及应用,具体通过以下方法制备得到:采用化学刻蚀的方法,在硅衬底上制备多孔金刚石薄膜;将制备得到金刚石薄膜与金属氧化物的凝胶,均匀旋涂,形成致密薄膜,干燥,制得多孔纳米金刚石/氧化物复合薄膜,本发明针对纳米金刚石薄膜形成多孔结构之后造成的导电性与活性位点的下降问题,对纳米金刚石薄膜进行合理的后期处理,有效地得到了金属化的多孔纳米金刚石薄膜材料。 | ||
搜索关键词: | 一种 纳米 金刚石 金属化 薄膜 制备 方法 产品 应用 | ||
【主权项】:
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
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