[发明专利]一种阵列基板及其制备方法、显示装置在审
| 申请号： | 201911311523.7 | 申请日： | 2019-12-18 |
| 公开（公告）号： | CN111061079A | 公开（公告）日： | 2020-04-24 |
| 发明（设计）人： | 林允植;张慧;贾玉娥 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/1333 | 分类号： | G02F1/1333 |
| 代理公司： | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人： | 姜春咸;冯建基 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明提供一种阵列基板及其制备方法、显示装置。该阵列基板的制备方法包括：在基底上形成绝缘挡墙，绝缘挡墙通过从基底的背离形成绝缘挡墙的一侧曝光形成；形成绝缘挡墙之前还包括：形成遮光层的图形。该阵列基板的制备方法，通过从基底的背离形成绝缘挡墙的一侧曝光形成绝缘挡墙，能够避免绝缘挡墙与像素电极边缘产生覆叠，从而使显示开口率不会遭受损失；通过在形成绝缘挡墙之前形成遮光层的图形，能够确保绝缘挡墙的图形通过背面曝光正常形成，从而避免相邻像素之间产生的电场相互干扰所导致的显示串扰现象，提升了阵列基板的品质。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 阵列 及其 制备 方法 显示装置 | ||
【主权项】：
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