[发明专利]阵列基板的制备方法、显示面板及显示器有效
| 申请号： | 201911319047.3 | 申请日： | 2019-12-19 |
| 公开（公告）号： | CN111139459B | 公开（公告）日： | 2021-12-03 |
| 发明（设计）人： | 叶京生 | 申请（专利权）人： | TCL华星光电技术有限公司 |
| 主分类号： | C23C16/46 | 分类号： | C23C16/46;H01L21/205;H01L27/12 |
| 代理公司： | 深圳紫藤知识产权代理有限公司 44570 | 代理人： | 张晓薇 |
| 地址： | 518132 广东*** | 国省代码： | 广东;44 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本申请公开了阵列基板的制备方法、显示面板及显示器，该制备方法包括：接收玻璃，制程室内的承载棒将玻璃撑起；下电极以第一速度向玻璃靠近并加热玻璃；下电极继续以第二速度向玻璃靠近并加热玻璃；下电极继续以第三速度向玻璃靠近并加热玻璃，其中，第三速度大于第二速度；对玻璃进行后加工得到阵列基板。本申请的制备方法能够提高阵列基板的生产效率。 | ||
| 搜索关键词： | 阵列 制备 方法 显示 面板 显示器 | ||
【主权项】：
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
