[发明专利]一种化学机械抛光液在审
申请号: | 201911320533.7 | 申请日: | 2019-12-19 |
公开(公告)号: | CN113004797A | 公开(公告)日: | 2021-06-22 |
发明(设计)人: | 李守田;任晓明;贾长征 | 申请(专利权)人: | 安集微电子(上海)有限公司 |
主分类号: | C09G1/02 | 分类号: | C09G1/02 |
代理公司: | 北京大成律师事务所 11352 | 代理人: | 李佳铭;王芳 |
地址: | 201203 上海市浦东新区张江高科技园区*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明提供一种化学机械抛光液,所述化学机械抛光液包含水、氧化铈、聚季氨盐、含苯环的羧酸、以及聚乙烯胺。只有聚季氨盐、含苯环的羧酸、聚乙烯胺三者一起使用,才会实现真正意义的自动停止功能,在空白片具有较低的抛光速率,而在图案化硅片的高的台阶高度时保持高的抛光速率,台阶高度越低时抛光速度抑制得越好,从而实现自动停止的功能。 | ||
搜索关键词: | 一种 化学 机械抛光 | ||
【主权项】:
暂无信息
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