[发明专利]一种CF基板用光致变色型负性光刻胶的制备方法在审
| 申请号： | 201911323676.3 | 申请日： | 2019-12-20 |
| 公开（公告）号： | CN111077733A | 公开（公告）日： | 2020-04-28 |
| 发明（设计）人： | 刘农强;陆顺平 | 申请（专利权）人： | 上海电动工具研究所（集团）有限公司;上海宝庆通用电工有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/038 | 分类号： | G03F7/038;G03F7/004 |
| 代理公司： | 上海申汇专利代理有限公司 31001 | 代理人： | 徐俊 |
| 地址： | 200030*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 一种CF基板用光致变色型负性光刻胶及其制备方法，其特征在于，将二季戊四醇六丙烯酸酯、1‑羟基环己基苯基甲酮、过氧化二苯甲酰，按配方混合均匀得到混合物A；将3,4‑环氧甲基3,4‑环氧甲酸酯、环己烷‑1,2‑二羧酸二缩水甘油酯、[环戊二烯‑铁‑对二甲苯]六氟磷盐按配方混合均匀得到混合物B；将混合物A、混合物B同时加入全密封不透光的不锈钢桶，开启搅拌，边搅拌边加入苯并螺吡喃类化合物，至混合均匀后得到最终产品。本发明具有改善了BM材料为了提高遮光浓度增加厚度而导致的固化不完全的缺点。解决了BM材料使用在RBG成膜之后无法精确对位的难题，先对位，曝光后BM材料变色，具有遮光性，达到遮光浓度的要求。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 cf 用光 变色 型负性 光刻 制备 方法 | ||
【主权项】：
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