[发明专利]双层曝光结构的显示电浆模组及其制造方法在审

专利信息
申请号: 201911324519.4 申请日: 2019-12-20
公开(公告)号: CN110908212A 公开(公告)日: 2020-03-24
发明(设计)人: 包进;陈山;唐振兴;许俊 申请(专利权)人: 无锡威峰科技股份有限公司
主分类号: G02F1/167 分类号: G02F1/167;G02F1/16753;G02F1/1679
代理公司: 无锡市大为专利商标事务所(普通合伙) 32104 代理人: 曹祖良
地址: 214028 江苏*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明涉及电子显示领域,具体涉及一种双层曝光结构的显示电浆模组及其制造方法。其中,双层曝光结构的显示电浆模组包括:基板,基板包括显示区和包围在所述显示区外周的衬垫框区;下电极,所述下电极设于所述显示区中,所述下电极包括若干成阵列式排布的像素下电极;上电极,所述上电极设于所述下电极上;显示电浆,所述显示电浆填充在所述上电极和下电极之间;电浆阻离框,所述电浆阻离框设于显示电浆中,所述电浆阻离框包括若干单元框,每个所述单元框对应框在所述像素下电极的外周,所述单元框上设有支撑柱;衬垫边框,所述衬垫边框设在所述衬垫框区中,所述衬垫边框的下端与所述基板耦合密封,上端与上电极耦合密封。本发明能够提高显示效果。
搜索关键词: 双层 曝光 结构 显示 模组 及其 制造 方法
【主权项】:
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