[发明专利]镀膜设备及其应用有效
申请号: | 201911326907.6 | 申请日: | 2019-12-20 |
公开(公告)号: | CN110983300B | 公开(公告)日: | 2023-06-20 |
发明(设计)人: | 宗坚;陶永奇;李福星 | 申请(专利权)人: | 江苏菲沃泰纳米科技股份有限公司 |
主分类号: | C23C16/517 | 分类号: | C23C16/517;C23C16/455;C23C16/26 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人: | 骆苏华 |
地址: | 214000 江苏省无锡市*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明提供一种镀膜设备及其应用,用于在基材表面镀膜,包括一进料装置和一设备主体,其中所述进料装置被连接于所述设备主体,其中所述进料装置包括一气体进料装置和一液体进料装置,其中所述气体进料装置被连通于所述设备主体以用于输送气态的气体原料至所述设备主体,其中所述液体进料装置被连通于所述设备主体以用于输送液态经气化后的气体原料至所述设备主体,其中所述设备主体基于所述气体原料制备薄膜,其中同一台所述镀膜设备能够在所述基材表面制备多种不同性能或者种类的薄膜或者膜层。 | ||
搜索关键词: | 镀膜 设备 及其 应用 | ||
【主权项】:
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的