[发明专利]硅氮化膜蚀刻液组合物有效
| 申请号： | 201911327311.8 | 申请日： | 2019-12-20 |
| 公开（公告）号： | CN111471462B | 公开（公告）日： | 2022-03-25 |
| 发明（设计）人： | 金正桓;金炳默;金泰熙;尹圣雄;李东奎;李承傭;李恩姃;郑明日;崔庆默;崔汉永 | 申请（专利权）人： | 东友精细化工有限公司 |
| 主分类号： | C09K13/06 | 分类号： | C09K13/06 |
| 代理公司： | 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 | 代理人： | 金成哲;宋海花 |
| 地址： | 韩国全*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供一种硅氮化膜蚀刻液组合物，其特征在于，包含(A)磷酸、(B)硅树脂和(C)水。本发明的硅氮化膜蚀刻液组合物提供以下效果：容易调节包含氧化物膜和氮化物膜的多层膜中对于氮化物膜的蚀刻选择比而能够仅选择性蚀刻氮化物膜，即使处理张数增加，选择比变化率也低，因而维持蚀刻性能，且抑制蚀刻后冲洗工序中粒子的产生及残留。 | ||
| 搜索关键词： | 氮化 蚀刻 组合 | ||
【主权项】：
暂无信息
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