[发明专利]一种化学机械抛光液在审
| 申请号： | 201911327371.X | 申请日： | 2019-12-20 |
| 公开（公告）号： | CN113004800A | 公开（公告）日： | 2021-06-22 |
| 发明（设计）人： | 郁夏盈;王晨;何华锋;李星;史经深 | 申请（专利权）人： | 安集微电子（上海）有限公司 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02 |
| 代理公司： | 北京大成律师事务所 11352 | 代理人： | 李佳铭;王芳 |
| 地址： | 201203 上海市浦东新区张江高科技园区*** | 国省代码： | 上海;31 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供一种化学机械抛光液，包括：研磨颗粒、催化剂、稳定剂、交联大分子表面缺陷抑制剂、氧化剂、水和pH调节剂。本申请的化学机械抛光液实现了同时抛光钨、氧化硅和氮化硅，保证高的钨的抛光速度的同时兼具中等的氧化硅速度和低的氮化硅速度，大大降低了抛光后氮化硅表面的表面缺陷，实现快速平坦化。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 化学 机械抛光 | ||
【主权项】：
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