[发明专利]像素结构及其制备方法、显示装置有效
申请号: | 201911329509.X | 申请日: | 2019-12-20 |
公开(公告)号: | CN113009733B | 公开(公告)日: | 2023-06-20 |
发明(设计)人: | 王智勇;宋勇 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方光电科技有限公司 |
主分类号: | G02F1/1335 | 分类号: | G02F1/1335;G02F1/1339;G02F1/1343 |
代理公司: | 北京安信方达知识产权代理有限公司 11262 | 代理人: | 解婷婷;曲鹏 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明实施例提供一种像素结构及其制备方法、显示装置,该像素结构包括子像素区域以及围绕所述子像素区域四周的间隔区域,所述间隔区域之上设置有互相断开的像素电极层和反射层;以提高显示装置的显示效果。 | ||
搜索关键词: | 像素 结构 及其 制备 方法 显示装置 | ||
【主权项】:
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